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超微量分光光度计是核酸和蛋白定量的常用工具，在日常使用过程中，空白测量是在样品测量前所必须的步骤。正确的理解什么是NanoPhotometer®或任何其他超微量分光光度计上的空白测量，以及空白读数对工作流程和结果产生的影响，是保障仪器正确操作和获得可靠结果的基础。
对于双光束紫外-可见分光光度计而言，空白与样品测量在空间上分开，扣除空白后得到样品的吸光值。而超微量分光光度计通常采用单光束设计，空白与样品测量需要在时间上分开，在进行空白测量后，得到表征光源强度的基线，然后样品的测量值扣除空白测量值得到样品的吸光值。在实际测量过程中，在一次空白测量之后，只要样品的溶剂成分不变，可以连续地测量多个样品，结果的计算都基于初始空白值的扣除。然而，空白基线的稳定是否受时间影响呢？即多久做一次空白，可以确定样品的吸光值和浓度准确可靠呢？
由于超微量分光光度计通常使用氙闪灯光源，作为一种闪烁点亮的冷光源，其稳定性是非常好的，基线的稳定性通常在1小时内可保持在0.002-0.003A（10mm光程）之内的波动水平，如果将光程因子计算在内，相当于1-2ng/μl dsDNA的浓度水平。对于常规浓度的样品而言，这个误差的引入几乎可以忽略，也不会反映在重复性之上。因此，对于一般性实验，在起码一小时内，空白测量是不用重新进行的（在样品台清洁的情况下）。而对于低浓度样品和一些流程严格控制的实验而言，基线随时间的波动将引入值得关注的测量不确定度，可能产生可观的示值误差，但对重复性的影响较小。因此，对于一些特殊样品，空白测量与样品测量不宜间隔较长的时间，以减小风险，甚至可能每个样品都重新做空白。
NanoPhotometer®在每次开机时都会对光源强度进行检测，初始化通过即代表光源已进入工作状态。在使用过程中，也可以通过光谱诊断功能，实时地进行光源性能检查。空白测量和基线稳定性对于超微量而言是重要的，不少日常使用中出现的问题都源自于空白和基线漂移。除了设备自身的诊断功能之外，定期的进行设备的基线稳定性检查也有助于判断和基线有关的部件是否正常，如光源、光学路径和检测器。
Implen通过样品压缩法实现了测量时间的大幅缩短，使光源的寿命延长至10年以上，在这个基础上，进一步增强了光线的强度控制和稳定性。而出色的光学路径设计和高性能通光材料的使用，也确定了基线波动在很小的范围内。在实际使用过程中，用户根据样品的实际情况和实验允差要求，制定合理的空白测量频率，可在确定可靠性的同时提高实验效率。